基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強的大小. 為了保證膜層質(zhì)量，壓強應盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(cháng)(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí)，沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子，因而形成的膜層結構疏松，顆粒粗大，缺陷多;反之，膜層結構均勻致密，機械強度高，膜層內應力大.

d、基片的溫度.在通常情況下，真空鍍鈦電話(huà)，基片溫度高時(shí)，吸附原子的動(dòng)能隨之增大，形成的薄膜容易結晶化，并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí)，則沒(méi)有足夠大的能量供給吸附原子，真空鍍鈦多少錢(qián)，因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.

PVD技術(shù)四個(gè)工藝步驟

(1)清洗工件：接通直流電源，氣進(jìn)行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

(2)鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

不銹鋼鍍鈦是一種比較新穎的表面處理方式：在真空室內采用真空弧光放電技術(shù)，鍍鈦，在陰極材料表面產(chǎn)生弧光，使陰極材料蒸發(fā)，形成原子和離子。在電場(chǎng)作用下，原子和離子束高速轟擊作為陽(yáng)極的工件表面。與此同時(shí)向真空室內通入反應氣體，即可在工件表面形成具有優(yōu)良性能的鍍層。陰極材料（也稱(chēng)靶材）一般采用鈦、鉻、鋯等金屬，常用反應氣體為氮氣和碳氫化合物氣體。獲得的鍍層有TiN、CrN、TiC、ZrN等。    通過(guò)鍍鈦可以改變不銹鋼板表面的顏色，金黃色、玫瑰金、鈦金色、黑色、青古銅、紅古銅等等，選擇多樣，完全可以根據客戶(hù)的喜好來(lái)，處理鍍鈦，自由度高，適用于各種風(fēng)格不同的場(chǎng)合。2    不銹鋼鍍鈦板材可以通過(guò)點(diǎn)焊、滿(mǎn)焊等加工方式進(jìn)行處理、剪折無(wú)脫離.適應性更強，適用范圍更廣，解決了以往復合板材焊接時(shí)容易出現的起泡剝離等問(wèn)題.